“祁书记，不对，祁总工，”

首席工艺专家，一位头发花白的老院士，

指着白板上祁同伟刚刚画出的一种新型沟道掺杂方案，激动得手指发抖，

“这个思路……完全跳出了现有的理论框架！

如果能在仿真中验证，或许能从根本上解决我们当前载流子迁移率不足的问题！”

“试试看。”

祁同伟的声音有些沙哑，但语气坚定，

“不要怕失败，所有计算资源和实验线时间优先向这个方向倾斜。

另外，光刻胶的配方，我认为可以从显影动力学角度重新优化，这是吴工团队的强项，你们配合一下。”

会议室内，烟雾缭绕（尽管禁烟，但老专家们忍不住），

白板上写满了令人眼晕的物理模型、化学反应式和数学推导。

争论时常发生，有时甚至面红耳赤，但目标一致：攻克那座名为“1.2微米”的技术高山。

无尘车间里，又是另一番景象。

恒温恒湿，空气经过多层过滤，几乎一尘不染。

工程师和技师们穿着臃肿的兔宝宝服，在黄色的安全灯下，

如同进行精密外科手术的医生，小心翼翼地操作着价值连城的光刻机、离子注入机、化学气相沉积设备。

他们的眼睛因长时间盯着显微镜和监控屏幕而布满血丝，但没有人抱怨。

所有人都知道，他们手中摆弄的，可能是这个国家打破信息时代技术封锁、挺直腰杆的第一步。

祁同伟经常深入车间，他不只是看，更会问。

他能准确地说出某台二手进口光刻机某个透镜组的曲率误差对套刻精度的影响，

能指出某批次硅片表面平整度数据的异常，

甚至能和设备工程师讨论真空泵的维护周期对工艺稳定性的潜在风险。

他的专业和投入，迅速赢得了这些心高气傲的技术精英们的由衷敬佩和信任。

士气，在高压下被拧成一股绳，达到顶峰。

经过近一个月废寝忘食的冲刺，团队解决了数以百计的大小难题，